|
Комплекс обладнання для потреб іонних прискорювачів і іонно-променевої модифікації матеріалівКомплекс обладнання для потреб іонних прискорювачів і іонно-променевої модифікації матеріалів: джерело з об'ємно-плазмової генерацією негативних іонів (безцезієве джерело); високодозний імплантер з масовою сепарацією іонів; стенд досліджень високоінтенсивних іонних джерел; установка високочастотного магнетронного розпилення; електронно-променева установка; високовакуумна установка для вимірювання параметрів газового польового джерела іонів голково-капілярного типу з охолоджуванням емітера до температури рідкого азоту; вакуумний стенд газового польового джерела іонів, що працює при кімнатній температурі.
Опис Відповідальний підрозділ: №11 - лабораторія прискорювачів прямої дії та іонної імплантації і модифікації реакторних матеріалів Останнє оновлення інформації: 23.07.2014
|
Останні новини Молодим ученимАспіранти Інституту можуть отримати доступ до OriginPro Learning Edition Детальніше ... Гранти для аспірантів на курси CERN Accelerator School Детальніше ... FELLOWSHIPS FROM CANON FOUNDATION Детальніше ... Гранти для українських науковців на участь у міжнародних наукових заходах Детальніше ... 13 лютого 2026 р. о 15-00 відбудеться відкрита лекція Детальніше ... Безкоштовний Microsoft Office 365 для співробітників Детальніше ... Доступ до Wolfram Mathematica Детальніше ... Запрошуємо на відкриту зустріч з експертною групою Детальніше ... |